主要规格和技术参数
1、分辨率：
高真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV
低真空模式 3.0nm @ 30kV, 12nm @ 3kV
环境真空模式 3.0nm @ 30kV
背散射电子像 4.0nm @ 30kV
2、样品室压力最高达2600Pa
3、加速电压200V ～ 30kV，连续调节
4、样品台移动范围
Quanta 200: X=Y=50mm
5、可测元素范围4Be～98Cf
主要功能及特色
功能：
金属、陶瓷、聚合物和复合材料等表面或断面微区形貌分析；生物样品或含水样品表面微区形貌分析（样品可无需表面处理，在保持原状的情况下进行观察和分析）；微粒、多孔材料或纤维形状观察及其尺寸分析；固体样品表面微区成分的定性和半定量分析。
特色：
1、FEI ESEM(环境扫描电镜)技术, 可在高真空、低真空和环境真空条件下对各种样品进行观察和分析。
2、所有真空条件下的二次电子、背散射电子观察和微观分析。
3、先进的系统结构平台，全数字化系统。
4、配备能谱仪、纳米微操纵仪。
5、低温冷台、加热台等进行样品的动态观察和分析。
主要附件及配置
二次电子探测器，背散射电子探测器，AZtec X-Max 80型X射线能量色散谱仪（EDS）(英国Oxford)，控温样品台（－20～50℃），喷金仪，纳米微操纵仪。
备注：1002056 场发射环境扫描电子显微镜系统 186.98247万；1606481S 扫描电镜EDS能谱仪附件 43万；12000759 纳米微操纵仪 82.578496万；设备总额由场发射环境扫描电子显微镜系统、扫描电镜EDS能谱仪附件和纳米微操纵仪构成，43万+82.578496万+186.98247万=312.56097万
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